对洁净度的要求无尘车间空气洁净度级别取决于所完成的工序。
最敏感的接触敞露晶园的工序（光刻、酸洗、溅射等）．：生产
特征尺寸为1微米的微电路时，上述工序应在IS0 4-IS0 5级洁净
度的洁净室中完成。若采用更小的特征尺寸时，便需要IS0 3级，
IS0 2级等洁净区。
　　在需要IS0 5级洁净度（美国联邦标准209D的100缎）的工艺
方面，广泛采用这样的方案，即高洁净度级别的洁净室占用很大
面积。因此便将设备移至洁净室外面，仅有设备控制盘和进出料
机构在洁净室内，而设备本身位于洁净度级别较低的技术维修
区，当特征尺寸在l微米左右时，可采用这种工艺。
　　洁净度级别更高的局部洁净区获得了广泛的应用，例如光刻
间，化学酸洗间，清洗问等。
　　直通武防护，区域防护和所谓工艺厅( ballroom)（第3章）
都是适合此种工艺的典型洁净室方案。冈此高洁净度级别洁净室
占用着过多的面积。，对洁净度的要求还会进一步提高，若仍按
传统的洁净室概念去对待，必将导致解决方案的非常不合理，其
出路就是采用隔离工艺。
　　隔离I艺隔离工艺的实质就是利用洁净空气将周围环境隔开，
形成物理隔离的一定空间，通常这一分隔空间称作密闭空间。

　　因此，将工艺过程与人和环境隔，就消除了最强的污染源之
一，人的影响。隔离工艺的采用引起自动化和机器人化的广泛推
广，这就能摆脱人的错淡。这样防止人污染工艺的洁净工艺就能
向无人工艺过渡，采用无人工艺后，工艺过程就能既不受污染影
响，又不受人为错误之害。
　　隔离装置在净化工程工艺中取得了广泛的应用（第5章）。在
电子工业中，隔离装置具有自己的特点，首先，需要隔离装置本
身即将设备内部空间与环境隔离开来，其次需要膈离箱，利用隔
离箱将晶园从一台设备移送至另一台设备，第三，需要进、出料
装置和必要的自动化（机器人化）工具。
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